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纳米研磨分散介绍

作者:admin日期:2020-10-20阅读
所谓纳米研磨即利用研磨介质之剪切力(Shear Force)、冲击力(Impact Force)将粉体之一次粒子(Primary Particle)粒径经由微米及次微米粉体逐步研磨成纳米等级。
研磨利用研磨介质的剪切力
纳米分散则是利用研磨介质之剪切力(Shear Force)、冲击力(Impact Force)及适当的溶剂、分散剂,将聚集严重的纳米粉体均匀分散至纳米等级。
纳米分散则是利用研磨介质之剪切力(Shear Force)、冲击力(Impact Force)及适当的溶剂、分散剂,将聚集严重的纳米粉体均匀分散至纳米等级。
为何选择湿式研磨分散设备?
A: 目前现有的干式研磨机因设计上的限制,其终粒径只能到数个微米。另外由于在研磨过程中,大量被导入至研磨槽中而使研磨槽温度上升而难以掌握;且当干式粉体微细化之后,易发生尘爆等相关问题的工安问题。
一般而言,若是想得到次微米以至于纳米级粉体,则需使用湿式研磨。所谓湿式研磨,研磨粉体加入适当的溶剂均匀混和,调制成研磨的原浆料。经由研磨介质之剪切力(Shear Force)、冲击力(Impact Force)使研磨粉体逐渐纳米化。湿式研磨不性高,更能地取得次微米或纳米级的研磨浆料和粉体。
 
为何选择钇稳定氧化锆珠
A: 研磨介质种类繁多,钇稳定氧化锆具有高硬度、高密度、高表面安定等特性,是目前适合用于纳米粉体研磨/分散设备之研磨介质,可确保研磨样品在研磨过程中不易有遭受污染的问题。
 
如何分离研磨样品与研磨介质?
A: 批次式:
纳米科技使用钇稳定氧化锆珠为研磨介质,其密度高于一般研磨样品 。研磨后利用研磨介质与研磨样品之密度差异即可轻易分离,亦可利用 简单过滤设备分离研磨样品与研磨介质。
连续式:
可利用间隙分离或离心分离等方式分离研磨介质与研磨样品。